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激光光掩膜主要分两个组成部分，即基板和不透光材料，不同掩模版的不透光材料有所不同。基板通常是高纯度，低反射率，低热膨胀系数的石英玻璃。不同种类光掩膜使用的不透光材料不同。光掩膜分为铬版（苏打玻璃、石英玻璃、硼硅玻璃）、干版、菲林、凸版（APR）。铬版的不透光层是通过溅射方法镀在玻璃下方厚约 0.1um 的铬层。铬的硬度比玻璃略小，不易受损但有可能被玻璃所伤害。应用于芯片制造的光掩膜为高敏感度的铬版。干版涂附的乳胶，硬度小且易吸附灰尘，不过干版还有包膜和超微颗粒干版，后者可应用于芯片制造。在芯片制造中，光刻类似于胶片相机中利用底片进行洗制照片的过程。芯片图形激光供应商家

掩模版激光都有哪些种类？

普通版：一般使用苏打玻璃或者石英，常见2寸到10寸，线宽一般在1um以上，主要用户接触式曝光机，转移图形与版图尺寸为1:1，实现同比例的图形转移。

Stepper版：一般使用石英版，常见为5寸和6寸版，线宽一般在500nm以上，主要用于Stepper曝光机台，转移图形与版图尺寸实际比例一般是4:1或者5:1，实现将版图图形缩小4~5倍之后投射于目的片上。

纳米压印版：一般用石英版，刻蚀其表面的金属形成沟槽和透光不透光的组合，尺寸一般需要5寸及以上，采用电子束直写的技术实现表面nm图形的转移，一般线宽在200~800nm左右，借助掩模版对光刻胶的压力、同时辅助紫外曝光，实现纳米级图形的转移。

金属掩模版：一把采用不锈钢，在不锈钢表面通过激光加工的方式，实现表面镂空的图形设计，线宽一般要20um，能够用于电子束蒸发、磁控溅射中，用于电极图形的转移。 MLED激光系统微纳加工-激光掩模版的作用；

激光钻孔加工常见的4种方法1.开铜窗法：先将RCC(涂上树脂的铜箔层)复压于内层板上，用光化方法制作窗口，然后用蚀刻露出树脂，再用激光烧除窗口内基材材料形成微盲孔。2.开大窗法：将铜窗直径增大到0.05mm左右，比底垫还大(通常根据孔径大小确定)，当孔径为0.15mm时，底垫直径应在0.25mm左右，其大窗口直径为0.30mm。然后进行激光照射，即可烧出微盲孔，这样位置准确，可用于制作精确的铜窗底垫。它的主要特点是选择自由度大，进行激光照射时可选择另按内层底垫的程序打孔。这种方法有效地避免了由于铜窗直径与孔径相同所引起的偏置，从而使激光点不能对准正窗口，从而导致大量的大尺寸拼板表面有很多半孔或残孔。

近年来，半导体激光器在医疗、传感、光学通讯、航空航天等领域的应用市场不断扩大，半导体激光器的种类和制造工艺也更加丰富多样。

许多新的应用领域要求半导体激光器具有更高的输出功率。增加输出功率主要有两种方式：1）提高芯片生长技术从而增加单发射腔半导体激光器输出功率。2）提阵列高半导体激光器发光单元的个数从而提高输出功率。为进一步提高光输出功率，提出了多种封装技术，其中包括多单管模组、水平叠阵、垂直叠阵、面阵。

激光开封机是怎么操作的？

由于激光微加工技术是用于透明材料的一种新的制造技术，因此可以预见微加工技术应用于意想不到的领域。从掌上型和可穿戴式显示器到通信和计算系统，光子设备现已遍及全球。制造光子器件必不可少的材料是透明材料，例如玻璃，聚合物和晶体，我们通常希望它们具有透明和宽带的透明性，稳定性以及多种成分。聚焦的超快激光脉冲会在这些透明材料中引起非线性吸收效应，从而使我们能够在材料的表面或内部进行微加工。这种被称为超快激光微加工的技术已经有了多种应用，例如切割、钻孔、波导耦合器和分路器的直接写入、光学动态记忆，甚至玻璃和玻璃、玻璃和金属或玻璃和陶瓷之间界面的焊接或接合技术。光刻掩模版的加工技术；PD激光去层

激光加工广泛应用于微电子、微机械和微光学加工三大领域。芯片图形激光供应商家

激光技术是20世纪与原子能、半导体及计算机齐名的四项重大发明之一．四十多年来，随着小型电子产品和微电子元器件需求量的日益增长，对于加工材料(尤其是聚合物材料以及高熔点材料)的精密处理日渐成为激光在工业应用中发展快速的领域之一．

激光加工是激光产业的重要应用，与常规的机械加工相比，激光加工更精密、更准确、更迅速．该技术利用激光束与物质相互作用的特性对包括金属与非金属的各种材料进行加工，涉及到了焊接、切割、打标、打孔，热处理、成型等多种加工工艺。激光的特性使之成为微处理的理想工具，广泛应用于微电子、微机械和微光学加工三大领域。

激光加工技术是利用激光束与物质相互作用的特性对材料(包括金属与非金属)进行切割、焊接、表面处理、打孔及微加工等的一门加工技术． 芯片图形激光供应商家

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